利用者資格

取扱講習会を受講した者、およびその講習会受講者より講習を受けた者
※条件付きで学外の方も利用できます

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本装置は一般にはFIB（Focused Ion Beam／集束イオンビーム）装置と呼ばれる。FIBはガリウムイオンのビームを試料に照射・走査することによって表面に0.1～10μmスケールの微細加工を施す装置である。

構造的には走査型電子顕微鏡（SEM）と類似した所が多い。絞りのサイズを変えることにより微弱なビームで走査二次電子像の観察を行い、強めのビームで彫刻加工（etching）を行う。

また炭素またはタングステンの積層加工（deposition）も可能である。これは試料表面に付着させた前駆体分子をビームで分解することによる。SEMと異なり、最も微弱なビームを選んでも照射し続けている限り試料表面は削られてゆくので注意が必要である。

アクセス

機器分析センター 1F