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開講学期 Course Start |
2011年度 後期 |
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授業区分 Regular or Intensive |
週間授業 |
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対象学科 Department |
情報電子工学系専攻 |
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対象学年 Year |
1 |
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必修・選択 Mandatory or Elective |
選択 |
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授業方法 Lecture or Seminar |
講義および演習 |
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授業科目名 Course Title |
プラズマエレクトロニクス特論 |
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単位数 Number of Credits |
2 |
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担当教員 Lecturer |
植杉克弘 |
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教員室番号 Office |
Y701 |
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連絡先(Tel) Telephone |
0143-46-5546 |
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連絡先(E-mail) |
uesugi＠mmm.muroran-it.ac.jp |
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オフィスアワー Office Hour |
月曜日 11：55−12：55， 木曜日 11：55−12：55 |
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授業のねらい Learning Objectives |
ＬＳＩやメモリ製造工程の超微細加工で用いられるプラズマ・プロセシング，高出力レーザー，放電灯等のように，プラズマの産業応用は多岐にわたっている．このような産業応用において，プラズマを適切かつ効率よく利用するには，その性質の詳細な理解と自在な制御が必要である．特に，プラズマの生成，プラズマ中の原子，分子，荷電粒子の挙動とそれらの物質との相互作用を把握することは，プラズマ・プロセス技術を理解する上で重要である．この授業では，部分的に電離し化学的に高い反応性をもつプラズマ放電の基本原理と，その半導体ドライプロセス等への応用について学ぶ． |
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到達度目標 Outcomes Measured By: |
１．プラズマの性質を理解する． ２．プラズマの生成メカニズムを理解する． ３．プラズマの半導体プロセスへの応用方法を理解する． |
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授業計画 Course Schedule |
総時間数：1.5時間×16回＝24時間 1週 ガイダンス 2週 Introduction to Plasma Discharges 3〜5週 Plasma Fundamentals 6〜8週 Gas Discharge Fundamentals 9週 Plasma Sources 10週 Introduction to Plasma Processing 11〜15週 Applications in Microelectronics 16週 期末試験 |
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教科書 Required Text |
授業に必要な資料は適宜プリントとして配布する． |
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参考書 Required Materials |
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| 教科書・参考書に関する備考 | |
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成績評価方法 Grading Guidelines |
期末試験（50%），演習の解答と説明内容（50%）によって評価し，60点以上を合格とする． |
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履修上の注意 Please Note |
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教員メッセージ Message from Lecturer |
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学習・教育目標との対応 Learning and Educational Policy |
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関連科目 Associated Courses |
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備考 Remarks |