| 授業のねらい |
| 半導体デバイスや各種機能性薄膜の生成プロセスに利用されるプロセス用反応性プラズマの特性とその応用技術を理解する。 |
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| 授業の目標 |
(1)弱電離気体プラズマの生成方法と特性を学習する。
(2)プラズマによるプロセス技術を学習する。
(3)プラズマプロせず議中の実際を学習する。 |
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| 授業計画 |
１．プロセス用反応性プラズマとは？
弱電離気体プラズマと完全電離プラズマの相違を、プラズマの性質から考える。
２．反応性プラズマにおける原子分子基礎過程
プラズマ中の各種粒子の運動を、拡散、移動、衝突から理解する。
３．プラズマの発生、輸送、維持機構
プラズマの作り方と利用の仕方を電気的特性から考える。
４．プラズマＣＶＤ
化学反応を利用した薄膜生成法を物理現象を利用した方法と比較するとともに、各種
薄膜生成法の実際を学ぶ。
５．プラズマエッチング、スパッタリング
プラズマエッチングの実際を理解する。また薄膜堆積、加工に利用されているスパッタ
法についても学ぶ。その他のプロセス用プラズマの利用法について整理する。
６．プラズマ診断
プラズマ中で起きている反応を実験的に調査する方法を理解する。
７．反応性プラズマのモデリング
プラズマ中で起きている反応を理論的に模擬して調査する方法を学ぶ。
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| 教科書及び教材 |
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| 参考書 |
Brian N. Chapman著、岡本幸雄訳「プラズマプロセシングの基礎」電気書院
小沼光晴著「プラズマと成膜の基礎」日刊工業新聞社
菅井秀郎著「プラズマエレクトロニクス」オーム社
真壁利明著「プラズマエレクトロニクス」培風館 |
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| 成績評価方法 |
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| 履修条件等 |
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| 教員からのメッセージ |
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| その他 |
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